XP粒子4.0破解版是一款適用于C4D軟件的粒子插件，設(shè)計人員可以在統(tǒng)一的系統(tǒng)中輕松地在動態(tài)圖形和VFX之間切換，使用獨特的問題和行動規(guī)則系統(tǒng)，可以完全控制粒子特效VFX流水線的各個方面，有需要的趕快來試試吧！

【功能特點】

　　1、粒子系統(tǒng)：從太陽能系統(tǒng)，F(xiàn)UI，全息圖和醫(yī)學(xué)可視化創(chuàng)建出色的ParticleFX到抽象藝術(shù)品。結(jié)合發(fā)射器和修改器的多個選項為您提供了廣泛的可能性。

　　2、煙，火和Flow：逼真的煙霧，火災(zāi)和爆炸性模擬。您可以將ExplosiaFX導(dǎo)出為VDB卷，然后可以讀取VDB數(shù)據(jù)的任何渲染引擎都可以呈現(xiàn)卷數(shù)據(jù)。

　　3、流體和粒子：流體和粒子溶解器使您能夠創(chuàng)建令人驚嘆的大型和小型流體模擬，從海灘到美麗的產(chǎn)品噴濺。

　　4、布料模擬：使用任何修改器驅(qū)動布料模擬，然后使用高級撕裂選項將其撕開。ClothFX為動作設(shè)計效果和破壞VFX鏡頭添加了全新的維度。

【特色介紹】

　　1、【常規(guī)】

　　修改了粒子核心和碰撞引擎，速度更快

　　使用INSYDIUM Bridge插件與Cinema 4D R20兼容

　　現(xiàn)在支持R20域，任何對象的“衰減”選項卡現(xiàn)在都顯示標(biāo)準(zhǔn)域顯示。X-Particles衰減位于各自面板的“域”列表中(僅適用于Cinema 4D R20)

　　用戶界面中增強(qiáng)的快速選項卡功能

　　2、【發(fā)射】

　　新發(fā)射器類型 - 圓環(huán)發(fā)射器

　　添加了發(fā)射器實例模式

　　現(xiàn)在可以為不同的約束類型設(shè)置顏色，并使用這些顏色從約束中渲染軌跡

　　新的擴(kuò)展數(shù)據(jù)項 - 發(fā)射頂點

　　通過著色器更改粒子顏色以提供正確的3D采樣

　　修改了發(fā)射器/組對象中的粒子顏色漸變

　　顯示新的修飾符域

　　沿對象法線添加新的變化控制

　　矩形模式下發(fā)射器的僅邊發(fā)射

　　發(fā)射器旋轉(zhuǎn)中的新向上矢量選項

　　新選項添加??到發(fā)射器衰減

　　3、【生成器】

　　增強(qiáng)的功能和在OpenVDB網(wǎng)格中網(wǎng)格化卷的功能

　　Trail對象中的新選項用于處理Infectio路徑

　　創(chuàng)建添加到Fragmenter對象的頂點顏色標(biāo)記的選項(僅限Cinema 4D R18和更高版本)

　　xpElektrix中的新距離控件

　　4、【動力學(xué)對象】

　　FluidPBD和FluidFX中更快，更準(zhǔn)確的流體模擬

　　FluidFX得到了極大的改進(jìn)，而且速度更快

　　添加了新Wave對象

　　改進(jìn)泡沫物體，以更好地控制泡沫從流體表面的偏移

　　ExplosiaFX添加了粒子組和衰減支持

　　FlowField對象中的修訂和增強(qiáng)的著色器模式

　　5、【修飾符】

　　新的Infectio修飾符

　　添加到Change Group和Spawn修飾符的更多繼承參數(shù)

　　添加到Attractor修改器的新目標(biāo)對象列表

　　Mograph Cloner / Matrix支持添加到Attractor修改器

　　新的力和速度設(shè)置添加到Attractor，Cover / Target，F(xiàn)lock，Rotator和Vortex修改器

　　改進(jìn)和擴(kuò)展的顏色修改器

　　現(xiàn)在，自定義數(shù)據(jù)可以映射到“自定義數(shù)據(jù)”修改器中的粒子數(shù)據(jù)

　　“幾何”修改器中的新閾值設(shè)置

　　添加到“Kill”修改器的新選項

　　新模式和新開關(guān)添加到Life修改器中

　　修改和擴(kuò)展的限制修飾符

　　“網(wǎng)絡(luò)”修改器中的新軸約束設(shè)置

　　三個新吸引子添加到Strange Attractors修改器中

　　新功能 - 跟蹤零長度的操作 - 添加到“跟蹤”修改器

　　權(quán)重修改器中的新操作模式

　　6、【其他物件】

　　Infectio修改器和VertexMap Maker中使用的新X-Particles種子對象

　　VertexMap Maker中的新模式 - “來自種子”

　　能夠在VertexMap Maker中添加頂點顏色標(biāo)記(僅限Cinema 4D R18及更高版本)

　　Z軸公式和位移著色器添加到Trail Deformer中

　　7、【問題/行動】

　　現(xiàn)在可以在發(fā)射器“問題”選項卡和所有對象的“操作”列表中禁用/啟用單個問題和操作

　　問題對象中的新流體數(shù)據(jù)問題

　　自生成功能已添加到Control Spawning操作中

　　添加了控制Infectio修飾符的新操作

　　8、【其他】

　　New System Hierarchy Sorter命令用于將X-Particles對象排序為System對象

　　X-Particles C4D*項中的新選項：自動將新創(chuàng)建的X-Particles對象添加到System對象中

　　添加到主X-Particles*項的新參數(shù)

　　通過數(shù)據(jù)映射，您現(xiàn)在可以將修改器參數(shù)映射到頂點貼圖標(biāo)記

　　Xpresso獲取/設(shè)置粒子數(shù)據(jù)節(jié)點現(xiàn)在允許您獲取或設(shè)置粒子的Infectio狀態(tài)

　　X-Particles C4D控制臺已更新和改進(jìn)

　　添加到距離著色器的新功能

　　現(xiàn)在已恢復(fù)原始版本中缺少的“裝載選項板”工具

　　樣條碰撞添加到碰撞引擎中

　　自適應(yīng)碰撞及其在Collider標(biāo)簽中的顯示

　　FluidFX Collider標(biāo)簽不再存在，應(yīng)在其位置使用標(biāo)準(zhǔn)X-Particles Collider標(biāo)簽。有關(guān)詳細(xì)信息，請參閱在線手冊中的FluidFX頁面